涂布模頭準(zhǔn)確控制,，有以下步驟：

設(shè)置模頭高度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),，用以調(diào)整涂布模頭的高度位置,；在涂布模頭或涂布平臺(tái)上設(shè)置距離測(cè)量?jī)x，用以測(cè)量涂布模頭與涂布平臺(tái)的距離,；根據(jù)應(yīng)用環(huán)境設(shè)定一預(yù)設(shè)高度值,、一預(yù)設(shè)偏差值；距離測(cè)量?jī)x測(cè)定涂布模頭與涂布平臺(tái)的距離,；將預(yù)設(shè)高度值與距離進(jìn)行比較,，并根據(jù)預(yù)設(shè)高度值通過(guò)模頭高度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)調(diào)整涂布模頭的高度；距離測(cè)量?jī)x實(shí)時(shí)測(cè)定涂布模頭與涂布平臺(tái)的距離,；根據(jù)預(yù)設(shè)高度值及預(yù)設(shè)偏差值獲得高度值范圍,，當(dāng)實(shí)時(shí)測(cè)定的距離偏移高度值范圍時(shí)，實(shí)施涂布模頭高度向預(yù)設(shè)高度范圍的閉環(huán)調(diào)整,。

基于擠壓式涂布方法對(duì)涂布薄膜厚度和厚度均勻性的高度可控制性特點(diǎn),，擠壓式涂布方式被廣泛應(yīng)用于新型薄膜太陽(yáng)能電池、新型顯示材料,、光學(xué)功能膜,、環(huán)保滲透膜等新型行業(yè)領(lǐng)域。隨著新型行業(yè)功能薄膜物化特質(zhì)的要求和薄膜高性能化要求,，涂布薄膜厚度及厚度均勻性需要更高程度的控制,。

一般而言，涂布薄膜的質(zhì)量(厚度和均勻性)受涂布設(shè)備和涂布條件的影響,，除機(jī)加工設(shè)備部件精度影響以外,，模頭高度控制和涂布速度控制對(duì)膜質(zhì)影響為顯著。

在擠壓式平板涂布過(guò)程中：樣片輸送,、模頭下降,、涂布(涂布完成)、模頭上升,，涂布模頭在涂布過(guò)程中要受到傳動(dòng),，涂布模頭機(jī)械調(diào)整也造成高度位置偏差，長(zhǎng)時(shí)間工作,，會(huì)造成更大的累計(jì)偏差,，從而造成涂布薄膜厚度的不均勻。采用上述優(yōu)選的方案,，在涂布過(guò)程中,，直接利用距離測(cè)量?jī)x測(cè)定涂布模頭到涂布平面的距離，并通過(guò)閉環(huán)控制完成涂布模頭的實(shí)時(shí)調(diào)整,，這樣可以大大減少因?yàn)橥坎寄ｎ^高度位置變化而造成涂布薄膜的影響,，以獲得厚度均勻一致的高質(zhì)量薄膜。